Picosun专利仿造使用ALD涂层技术

芬兰的Picosun Oy获得了一项涂层技术的美国专利，该公司表示，这项技术可能成为防伪装备中的一种有力工具。

该公司是一种被称为原子层沉积(ALD)的涂层技术的先驱，ALD是由芬兰科学家Tuomo Suntola博士在20世纪70年代发明的，他是Picosun的董事会成员和所有者之一。ALD涉及到在表面沉积两种或两种以上元素(如金属氧化物)的交替单分子层，形成晶体结构，并允许精确控制生成的薄膜的厚度。

它已经被广泛应用于制造硅芯片中的晶体管、制造led，以及奢侈手表等高价值商品的保护层，但直到最近，它的防伪潜力才得到广泛的探索。

这项新专利(编号10,600,058)涵盖了ALD的使用，在覆盖产品(如集成电路)的薄膜上引入可识别的签名或代码，使用不同预定厚度的层，可以使用合适的阅读器检测到。

专利摘要如下:

防伪特征

文摘:一种在产品上应用防伪签名的方法和防伪签名。该方法包括选择衬底和类型签名，并在衬底上通过原子层沉积ALD形成所选类型的签名，其中，形成该签名包括通过原子层沉积ALD在衬底上应用至少一层具有配置为用分析方法检测的预定属性。

美国专利号10,600,058